●平成１７年（行ケ）第１０７１７号

進歩性/特許出願/阻害要因/カプセル封入材

［事件の概要］

①事件の経緯

　訴外Ｉは、平成８年７月１０日に「有機発光素子用のカプセル封入材としてのシロキサンおよびシロキサン誘導体」と称する発明を特許出願し、

　平成１４年４月１１日に、当該特許特許出願の拒絶査定を受けたために、これを不服として審判を請求しました。

　原告は、前記審判の請求後にＩから当該特許出願の特許を受ける権利を承継したが、拒絶審決を受けたためにその取消を求めて本件訴訟を提起しました。

②本件特許特許出願の請求の範囲

　「【請求項１】一方が陽極として働き、もう一方が陰極として働く２つの接触電極と、

　前記２つの電極の間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生する有機領域とを有し、

　発光部分がシロキサンで覆われ、前記シロキサンが前記光の経路内に配置された光学要素を含み、

　前記光学要素は、前記シロキサンに埋め込まれるか、前記シロキサン中に形成されるか、または前記シロキサンのポケット状の部分内に配置される、レンズ、回折格子、ディフューザ、偏光子、またはプリズム、あるいはこれらの任意の組み合わせからなる、ことを特徴とする有機発光素子。」

③特許出願人の発明の概要

　本発明は、離散型発光素子・ディスプレイなどの有機電界発光素子、詳しくはこれらの素子のカプセル封入に関するものです。

　有機電界発光（EL）素子は、加工し易くかつ極めて高い自由度を有するため、多くの用途において従来の無機電界発光素子にとって変わる可能性があり、また新たな用途に供される可能性もあります。

　その反面、有機材料のあるものは汚染・酸化・湿度に非常に敏感であるため、またその接触電極に用いられる金属の大部分は、空気または他の酸素含有環境で腐食され易いため、
有機電界発光素子は信頼性の問題（空気中又は作動中で劣化し易い）があります。

　特許出願人の発明は、こうした問題を回避するために、カプセル封入材として、シロキサン導入し、当該シロキサンで光学素子を覆ったものです。

　なお、シロキサンは、酸素とケイ素とを骨格とする化合物であり、

［本件発明］

１７…カプセル封入材（キシロサン）・１８…レンズ（光学要素）・１３～１５…有機領域

④本件特許出願の先行技術は、次の通りです。

（Ａ）刊行物１．特開平８－８３６８８号公報

（ａ）刊行物１には次のことが記載されています。

ア．「この有機ＥＬ装置の断面の概略を図２に示す。図２に示したように、この有機ＥＬ装置１０ａは基板１１ａとこの基板１１ａの片面（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを備え、有機ＥＬ素子１２は基板１１ａ側から順に陽極（透明性電極；ＩＴＯ膜）／正孔輸送層／有機発光層／陰極（鏡面性電極；Ｍｇ・Ｉｎ層）を積層してなる。これらの部材のうち、陽極（透明性電極）を符号１３で、また陰極（鏡面性電極）を符号１４で示す（。」第１０頁第１８欄第３２行～第４０行）

イ．「まず、基板として実施例１で使用したガラス板と同じもの（ただし、ＩＴＯ膜は設けられていない）を用い、この基板の内側面に実施例１と同様にしてレンズシートＩを固着させた。このとき、レンズシートＩの向きはレンズが形成されている側の面が有機ＥＬ素子と対向する向きとした。次に、このレンズシートＩの上に光硬化性樹脂（広栄化学工業（株）製のコーエイハードＭ－１０１）を塗布して、実質的に平坦な表面を有するオーバーコート層を設けた。このとき、オーバーコート層の膜厚（最大膜厚）は１０μｍとした。この後、前記のオーバーコート層上に前述の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置の断面の概略を図４に示す。図４に示したように、この有機ＥＬ装置１０ｃは基板１１ａと、この基板１１ａの片面（内側面）にエポキシ系接着剤（図示せず）によって固着された光散乱部としてのレンティキュラーレンズシート１５ａ（レンズシートＩ）と、このレンズシート１５ａ上に形成されたオーバーコート層１６と、このオーバーコート層１６上に形成された有機ＥＬ素子１２とを備えている。」（第１１頁第１９欄第２８行～第４７行）

ウ．「片面にレンズ処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルム（レンティキュラーレンズの金型に流し込んで成形したもの）を基板兼光散乱部として用い、この基板においてレンズ処理してない側の主表面上に前記の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置の断面の概略を図８に示す。図８に示したように、この有機ＥＬ装置１０ｄは基板１１ｃとこの基板１１ｃの片面（内側面）に形成された有機ＥＬ素子１２とを備え、基板１１ｃの外側面（有機ＥＬ素子１２が形成されている面とは反対側の面）にはレンティキュラーレンズ２０がレンズ処理によって形成されている。この基板１１ｃは光散乱部を兼ねている。」（第１２頁第２１欄第４行～第１６行）

エ．「まず、基板として透明ガラス板（日本板ガラス社製のＯＡ－２、厚さ１．１ｍｍ）を用い、この基板の内側面にアルミニウムを班点状に付着させることにより光散乱部を形成した。この光散乱部の形成は真空蒸着法により行い、そのときの成膜条件は減圧度１×１０-4Ｐａ、アルミニウムを入れた坩堝の温度１２００℃とした。また、班点状に付着したアルミニウムの膜厚（平均値）は０．０１μｍであり、被覆率は約５０％であった。次に、この光散乱部上に光硬化性樹脂（広栄化学工業（株）製のコーエイハードＭ－１０１）からなるオーバーコート層を設けることにより実質的に平坦な面を形成した。このとき、オーバーコート層の膜厚（基板面を基準とした膜厚）は１０μｍとした。この後、前記のオーバーコート層上に前述の方法（ＩＴＯ膜の成膜を含む）により有機ＥＬ素子を形成して、目的とする有機ＥＬ装置を得た。この有機ＥＬ装置の一部切欠き斜視図を図１１として示す。図１１に示した有機ＥＬ装置１０ｇは基板１１ｆと、この基板１１ｆの片面（内側面）に班点状に付着したアルミニウム２３からなる光散乱部と、この光散乱部を被覆するオーバーコート層２４と、このオーバーコート層２４上に形成された有機ＥＬ素子１２とを備えている（第１２頁第２２欄第。」３４行～第１３頁第２３欄第５行）

（Ｂ）刊行物２．特開平７－３７６８８号公報

　刊行物２には、次の事が記載されています。

「図５は、本発明の第３の実施例であるＥＬ素子３１を示す側面図である。ＥＬ素子３１は、前記ＥＬ素子１とほぼ同様に構成されるけれども、基板３２に光吸収部３４が形成されていることを特徴とする。なお、ＥＬ素子３１において前記ＥＬ素子１と同様に構成される部材には、同様の参照符を付して示している。

　【００２４】図６は、前記基板３２を示す平面図である。基板３２は、たとえばプラスチックで実現される。たとえば、光吸収部３４とされる低屈折率な黒色の耐熱性プラスチック材料から成る基板３２に、その厚み方向に貫通して微細な穴を多数（本実施例では４）設け、該穴に高屈折率な透光性を有するプラスチック材料を埋込むことによって高屈折率部３３が形成される。画素１１は、この高屈折率部３３にそれぞれ対応して形成される。

　【００２５】このような基板３２の一方表面３２ａには、前記ＥＬ素子１と同様に第１帯状電極３、第１絶縁層４、ＥＬ発光層５、第２絶縁層６、第２帯状電極７がこの順に積層されたＥＬ構造体が形成され、また他方表面３２ｂにも同様に分光フィルタ８が形成される。」（第４頁第６欄第１行～第２０行）

（Ｃ）刊行物３．特開平５－３６４７５号公報

　刊行物３には、次の事が記載されています。

　「本発明の方法は、・・・有機ＥＬ素子の前記積層構造体の外表面に、電気絶縁性高分子化合物からなる保護層を設けた後、この保護層の外側に、電気絶縁性ガラス、電気絶縁性高分子化合物および電気絶縁性気密流体からなる群より選択される１つからなるシールド層を設けることを特徴とするものである。」（段落【0008】）

　「保護層の材料である電気絶縁性高分子化合物は、物理蒸着法（以下、ＰＶＤ法ということがある）により成膜可能なもの、化学気相蒸着法（以下、ＣＶＤ法ということがある）により成膜可能なもの、またはパーフルオロアルコール、パーフルオロエーテル、パーフルオロアミン等のフッ素系溶媒に可溶のものであればよいが、透湿度の小さなものが特に好ましい。各電気絶縁性高分子化合物の具体例としては、それぞれ以下のものが挙げられる。」（段落【0011】）

　「②ＣＶＤ法［プラズマ重合法（プラズマＣＶＤ）］により成膜可能な電気絶縁性高分子化合物ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリビニルトリメチルシラン、ポリメチルトリメトキシシラン、ポリシロキサン等。」（段落【0013】）、「保護層は、用いる高分子化合物に応じて、それぞれＰＶＤ法（上記①の高分子化合物）、ＣＶＤ法（上記②の高分子化合物）、キャスト法またはスピンコート法（上記③の高分子化合物）により設けることができる。保護層の厚さは、用いる材料や形成方法にもよるが、１０nm～１００μｍであることが好ましい。」（段落【0015】）

　「長寿命の有機ＥＬ素子を得るうえからは、保護層の形成過程での発光層や対向電極の特性劣化をできるだけ抑止することが望ましく、そのためにはＰＶＤ法やＣＶＤ法により真空環境下で保護層を設けることが特に好ましい。そして、同様の理由から、積層構造体を構成する発光層の形成から保護層の形成までを一連の真空環境下で行うことが特に好ましい。」（段落【0021】）

　「本発明の方法では、このようにして設けた保護層の外側に、電気絶縁性ガラス、電気絶縁性高分子化合物および電気絶縁性気密流体からなる群より選択される１つからなるシールド層を設ける。このとき、積層構造体は保護層により守られたかたちになっているので、シールド層の形成には種々の方法を適用することができる。」（段落【0022】）

⑤本件特許出願に対する審決の内容は、次の通りです。

（Ａ）本願発明が、次の発明の組み合わせに基づいて当業者が容易に発明できたので、特許法２９条２項（進歩性）の規定により特許を受けることができない

・特開平８－８３６８８号公報（刊行物１）及び特開平５－３６４７５号公報（刊行物３）

・特開平７－３７６８８号公報（刊行物２）及び刊行物３

にそれぞれ記載された発明に基づいて、当業者が容易になし得た発明であり、また、特開平７－３７６８８号公報（甲第６号証。以下「刊行物２」という。）及び刊行物３それぞれ記載された発明に基づいて、当業者が容易になし得た発明でもあるので、特許法２９条２項の規定（進歩性）により特許を受けることができない。

（Ｂ）具体的な容易想到性（進歩性欠如）の論理付けは次の通りです。

（ａ）刊行物１の陽極と陰極とは接触電極であって前記２つの電極との間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生することは自明であり、また、発光部分がオーバーコート層で覆われ、オーバーコート層が光の経路内に配置されたレンズシートを含むことは明らかであることから、刊行物１には、

　「一方が陽極として働き、もう一方が陰極として働く２つの接触電極と、

　前記２つの電極の間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生する有機発光層とを有し、

　発光部分がオーバーコート層で覆われ、前記オーバーコート層が光の経路内に配置されたレンズシートを含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。」（以下、「刊行物１記載の発明ａ」という。）が開示されている。

（ｂ）また、刊行物１の前記記載事項ア．、エ．の記載、及びオ．、ク．の図面、そして、刊行物１の陽極と陰極とは接触電極であって前記２つの電極との間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生することは自明であり、また、発光部分がオーバーコート層で覆われ、前記オーバーコート層が光の経路内に配置された光散乱部を含むことは明らかであることから、刊行物１には、

　「一方が陽極として働き、もう一方が陰極として働く２つの接触電極と、

　前記２つの電極の間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生する有機発光層とを有し、

　発光部分がオーバーコート層で覆われ、前記オーバーコート層が光の経路内に配置された光散乱部を含むことを特徴とする有機ＥＬ素子。」（以下、「刊行物１記載の発明ｂ」という。）が開示されている。

（ｃ）本件発明と刊行物１記載の発明ａは、

　「一方が陽極として働き、もう一方が陰極として働く２つの接触電極と、

　前記２つの電極の間に電圧を印加した場合に電界発光により光が発生する有機領域とを有し、

　発光部分が被覆層で覆われ、前記被覆層が前記光の経路内に配置された光学要素を含み、

　前記光学要素は、前記被覆層に埋め込まれるか、前記被覆層中に形成されるか、または前記被覆層のポケット状の部分内に配置される、レンズ、回折格子、ディフューザ、偏光子、またはプリズム、あるいはこれらの任意の組み合わせからなる、ことを特徴とする有機発光素子。」である点で一致し、以下の点で相違している。

　［相違点］被覆層に関して、本願発明がシロキサンであるのに対して、刊行物１記載の発明ａはオーバーコート層である点。

　刊行物１記載の発明ａのオーバーコート層は発光部分を覆うものであり、同様に発光部分を覆っている、刊行物３に記載された、有機発光素子の封止機能を有する保護層としてのシロキサンを刊行物１記載の発明ａのオーバーコート層に替えて用いることは、当業者が容易に想到し得た事項である。

（ｄ）刊行物１記載ａの発明の判断で既述したのと同様の理由により、刊行物１記載ｂの発明のオーバーコート層は発光部分を覆うものであり、同様に発光部分を覆っている、刊行物３に記載された、有機発光素子の封止機能を有する保護層としてのシロキサンを刊行物１記載の発明ｂのオーバーコート層に替えて用いることは、当業者が容易に想到し得た事項である。

⑥特許出願人が主張する取消事由の要旨は次の通りです。

（ａ）引用発明１ｂのオーバーコート層は、引用発明１ａのオーバーコート層と同様、光散乱部の凹凸面を平坦化するものであり（刊行物１段落【0033】）、刊行物１には、オーバーコート層によって有機発光素子を封止することは、開示も示唆もされていない。上記３の(1)のとおり、引用発明１ｂの有機発光素子装置では、基板と有機発光素子との間にオーバーコート層を形成するものであって、オーバーコート層は最表面に露出するものではないから、封止という役割をする必要がないことも引用発明１ａと同様である。他方、引用発明３のシロキサンが、有機発光素子の保護膜であって、光散乱部の凹凸面を平坦化するためにのものではないことは、上記２のとおりであるから、引用発明１ｂのオーバーコート層と引用発明３のシロキサンとは、機能が異なるものであり、引用発明１ｂのオーバーコート層を引用発明３のシロキサンに換える動機付けがない。

　また、刊行物１、３に、有機発光素子の最表面を水、溶剤、埃などの外部汚染物質に対する優れた障壁（シールド層）を形成するために、シロキサン及びシロキサン誘導体で被覆することが、開示も示唆もされていないことも、上記２のとおりである。

　したがって、上記相違点に係る本願発明の構成は、引用発明１ｂ及び引用発明３に基づいて、当業者が容易に想到し得るものではない。

（ｂ）取消事由１～３、５～６は省略します。

［裁判所の判断］

①裁判所は特許出願人が主張する取消事由４に関して次のように判断しました。

　被告は、発光部分（引用発明１ｂの有機ＥＬ素子、引用発明３の積層構造体）と被覆層（引用発明１ｂのオーバーコート層、引用発明３のシロキサン）との関係を見ると、引用発明１ｂも引用発明３も発光部分が被覆層に覆われているものであり、また、引用発明１ｂと引用発明３とは、有機発光素子という同一技術分野に属しているので、引用発明１ｂのオーバーコート層を引用発明３のシロキサンに置き換えて相違点に係る構成とすることに格別の困難性はないと主張する。（中略）

　しかしながら、刊行物１の「本発明の有機ＥＬ装置では・・・光散乱部を設けた基板上に有機ＥＬ素子が形成されているわけであるが、凹凸面を有する光散乱部を前記の凹凸面が有機ＥＬ素子と対向する向きに基板の内側面上に設けた場合には、この光散乱部の上にオーバーコート層を設けて実質的に平坦な面を形成した後、このオーバーコート層上に有機ＥＬ素子を形成する。オーバーコート層を設けることなく前記の光散乱部上に直接有機ＥＬ素子を形成すると、前記の光散乱部と直接接することになる透明性電極（有機ＥＬ素子を構成する透明性電極＝陽極）が前記光散乱部の凹凸の影響を受けて平坦にならないため、有機ＥＬ素子を構成する各層の厚さが一定でなくなる結果、発光面に多数のダークスポットが生じ足り、ショートパスによる断線が生じ易くなる。」（段落【0033】）との記載によれば、引用発明１ａのオーバーコート層は、光散乱部の凹凸面上に直接有機発光素子を形成した場合における、光散乱部の凹凸の影響による発光面の多数のダークスポットの発生やショートパスによる断線などを避けるため、光散乱部の凹凸面を実質的に平坦化する目的で形成するものであることが認められる。

（ｂ）他方、引用発明３のシロキサンは、有機発光素子の外表面にシールド層を形成する際の影響から有機発光素子を保護すること等を目的とする保護膜として設けられるものであり、保護層形成過程での発光層や対向電極の特性劣化をできるだけ抑止するために、ＣＶＤ法により真空環境下で形成されることが特に好ましいことが認められる。

　また、特開平１－３０７２４７号公報（乙第１号証）には、一般にＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法）によって成膜された酸化膜は極めて薄く、平坦化目的には適さないことが記載されている（１頁右欄６～１５行）。

　そして、刊行物１の上記記載によれば、引用発明１ｂのオーバーコート層は、光散乱部の凹凸面を実質的に平坦化し得るものでなければならないが、引用発明３のシロキサンが、その形成方法や膜厚を含めて平坦化に適した特質を有することを認めるに足りる証拠はなく、却って、上記刊行物３の記載や特開平１－３０７２４７号公報の記載に照らすと、平坦化には適さないことが窺われる。そうすると、たとえ、引用発明１ｂも引用発明３も発光部分（引用発明１ｂの有機ＥＬ素子、引用発明３の積層構造体）が被覆層（引用発明１ｂのオーバーコート層、引用発明３のシロキサン）に覆われているものであり、また、引用発明１ｂと引用発明３とは、有機発光素子という同一技術分野に属しているとしても、それだけでは、引用発明１ｂのオーバーコート層に換えて引用発明３のシロキサンを用いることが、当業者にとって容易になし得たと論理付けることはできない。

②裁判所は、取消事由４に関する被告（特許庁）の主張に関して次のように判断しました。

（ａ）被告は、特開平１－３０７２４７号公報（乙第１号証）や特開平２－１２３７５４号公報（乙第２号証）に見られるように、平坦化膜としてシロキサンを用いることは従来周知の技術事項であると主張する。

　しかし、特開平１－３０７２４７号公報は、上記のとおり、ＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法）によって成膜された酸化膜が極めて薄いため、平坦化目的には適さないとするものであって、そのシロキサンによる平坦化層の形成方法（３頁左上欄３行～右上欄６行）は、ＣＶＤ法によりなされるものではない。このことは、特開平２－１２３７５４号公報記載のシロキサンによる層形成（３頁右上欄末行～左下欄１４行）においても同様である。しかも、これらの刊行物に記載される平坦化膜は、引用発明１ｂや引用発明３のような有機発光素子装置ではなく、半導体装置に形成されるものであるところ、保護層形成過程において受けるダメージに関して、有機発光素子を、半導体素子と同様に扱ってよいことが知られていると認めるに足りる証拠もない。そうすると、上記各刊行物に、半導体装置において、ＣＶＤ法以外の方法により、シロキサンを用いた平坦化膜の形成が記載されているからといって、これに従って、上記のとおり、「ＣＶＤ法［プラズマ重合法（プラズマＣＶＤ）］により成膜可能な電気絶縁性高分子化合物・・・ポリシロキサン等。」、「長寿命の有機ＥＬ素子を得るうえからは、保護層の形成過程での発光層や対向電極の特性劣化をできるだけ抑止することが望ましく、そのためにはＰＶＤ法やＣＶＤ法により真空環境下で保護層を設けることが特に好ましい」との記載のある刊行物３に開示されたシロキサンの保護膜を、真空環境下におけるＣＶＤ法以外の方法により形成して、引用発明１ｂのオーバーコート層に代わる平坦化膜に使用することが、当業者に容易になし得るものとは認めることができない。

（ｂ）なお、被告は、引用発明１ｂのオーバーコート層を引用発明３のシロキサンに置き換えて用いることは、より良い材料を試みようとする当業者にとって当然のことであるとも主張する。

　しかし上記の通り、引用発明３のシロキサンが、平坦化に適した特質を有するものとは認められないのであるから、これを引用発明１ｂのオーバーコート層に代わる「より良い材料」ということはできないのであって、被告の上記主張を採用することもできない。（後略）

　　(3)　以上のとおりであるから、本願発明と引用発明１ｂの相違点についての審決理由の（したがって審決の）判断は、誤りというべきである。

［コメント］

①進歩性審査基準の考え方は、“進歩性が否定される方向に働く諸事実及び進歩性が肯定される方向に働く諸事実を総合的に評価すること”です。

　本件では、（イ）主引例の発明の課題（発光箇所の平坦化）が副引用例の課題（発光箇所の保護）と異なる点、（ロ）そして副引例のシロキサンは、“水分、酸素などに弱い”という蛍光性の有機固体（有機ＥＬ素子の発光発行層の材料）の保護層であり、対象面の平坦化という主引用例の目的に適したものではないという２つの要因を考慮して、容易想到性を否定（進歩性を肯定）するという判断になりました。

②単に課題が異なるというだけでは、進歩性を肯定する材料としては、必ずしもだけでは十分ではありません。一つの目的地（アイディア）に辿り着くのに、その道筋は必ずしも同じである必要はないからです。→596 F. 2d 1019 [In re Wiseman]

［特記事項］

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