501 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の費用(1〜3年次分特許料) |
502 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の種類(国別・ルート別) |
503 |
実体法 |
2次的考察の留意事項 |
504 |
特許出願の種類 |
国内書面提出期間 |
505 |
特許出願の種類 |
国内処理基準時 |
506 |
条約 |
国内手続の繰延べ |
507 |
実体法 |
拡大された先願の地位が認められる書類の範囲 |
508 |
実体法 |
拡大された先願の地位が認められる出願の範囲 |
509 |
実体法 |
拡大された先願の地位の公開条件 |
510 |
実体法 |
発明の要旨 |
511 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
国際特許出願の流れ(国内処理基準時まで) |
512 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
国際特許出願の流れ(国内処理基準時後) |
513 |
実体法 |
発明の要旨のケーススタディ(原則的事例1) |
514 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の補正 |
515 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の補正(出願人の欄の補正) |
516 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の補正(発明者の欄の補正) |
517 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
出願公開後の特許出願の流れ |
518 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
出願公開後の特許出願の流れ(第三者による監視業務) |
519 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の処分 |
520 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
行政事件訴訟による取消の訴え |
521 |
実体法 |
拡大された先願の地位の条件(先願発明の存在) |
522 |
実体法 |
拡大された先願の地位のケーススタディ1(未完成発明) |
523 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の性質 |
524 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
恩恵主義とは(特許出願の性質) |
525 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
権利主義とは(特許出願の性質) |
526 |
実体法 |
発明の要旨の認定(特許出願の明細書の記載が参酌される場合) |
527 |
実体法 |
発明の要旨のケーススタディ(例外的事例1) |
528 |
実体法 |
Nexus(関係性)とは〔商業的成功〕 |
529 |
実体法 |
commercial
success(商業的成功)のケーススタディ1〔Nexusの存在〕 |
530 |
実体法 |
先願権 |
531 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願中の権利 |
532 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願人の名義変更 |
533 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許を受ける権利の譲渡性 |
534 |
実体法 |
引用発明の内容中の示唆のケーススタディ1(物の選択) |
535 |
実体法 |
引用発明の内容中の示唆のケーススタディ2(位置の選択) |
536 |
実体法 |
2次的考察のケーススタディ1 |
537 |
実体法 |
Presumption of Patent
Validityのケーススタディ1 |
538 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の方式補正 |
539 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
手続補正書の独立性 |
540 |
外国の特許法・特許制度 |
Solicitor(事務弁護士) |
541 |
実体法 |
A person of ordinary skill in the
art(当業者) |
542 |
実体法 |
presumed to have known(知っていたと推定される) |
543 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の早期審査 |
544 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の早期審理 |
545 |
実体法 |
commercial success(商業的成功)のケーススタディ2〔Nexusの存在〕 |
546 |
外国の特許法・特許制度 |
Jepson claim |
547 |
外国の特許法・特許制度 |
preamble |
548 |
外国の特許法・特許制度 |
preambleの解釈 |
549 |
特許申請及びこれに付随する手続 |
特許出願の実体補正 |
550 |
特許出願の審査 |
複数当事者の相互代表 |
551 |
特許出願の審査 |
不利益行為 |
552 |
特許調査 |
米国特許分類 |
553 |
実体法 |
notorious knowledge |
554 |
外国の特許法・特許制度 |
First to Invent Systemとは(特許出願の) |
555 |
外国の特許法・特許制度 |
Interferenceとは(特許出願の) |
556 |
外国の特許法・特許制度 |
First to File System |
557 |
外国の特許法・特許制度 |
First Inventor to File System |
558 |
外国の特許法・特許制度 |
Grace periodとは(米国特許出願) |
559 |
外国の特許法・特許制度 |
effective filing date |
560 |
外国の特許法・特許制度 |
Deviationとは(特許出願の) |
561 |
外国の特許法・特許制度 |
Best Mode要件とは(特許出願の) |
562 |
実体法 |
Substantial evidence |
563 |
外国の特許法・特許制度 |
米国特許出願の種類 |
564 |
外国の特許法・特許制度 |
Utility Patent applicationとは(実用特許出願) |
565 |
外国の特許法・特許制度 |
Design Patent applicationとは(意匠特許出願) |
566 |
外国の特許法・特許制度 |
Continuing Applicationとは(継続的な出願) |
567 |
外国の特許法・特許制度 |
Continuation Applicationとは(継続出願) |
568 |
外国の特許法・特許制度 |
Continuation in part
Applicationとは(一部継続出願) |
569 |
外国の特許法・特許制度 |
Divisional Applicationとは(分割出願) |
570 |
外国の特許法・特許制度 |
Provisional patent
applicationとは(仮特許出願) |
571 |
外国の特許法・特許制度 |
Application for Reissue
patent(再発行特許出願) |
572 |
外国の特許法・特許制度 |
米国特許出願の流れ |
573 |
外国の特許法・特許制度 |
(米国特許出願における)限定請求 |
574 |
ビジネス用語 |
技術標準 |
575 |
ビジネス用語 |
デジュール標準 |
576 |
ビジネス用語 |
デファクト標準 |
577 |
ビジネス用語 |
フォーラム標準 |
578 |
ビジネス用語 |
フォーマット標準 |
579 |
ビジネス用語 |
インターフェイス標準 |
580 |
ビジネス用語 |
性能試験標準 |
581 |
ビジネス用語 |
スイッチングコスト |
582 |
ビジネス用語 |
垂直統合 |
583 |
ビジネス用語 |
自前主義 |
584 |
権利内容 |
再実施許諾(サブライセンス) |
585 |
ビジネス用語 |
特許出願人の技術標準化対策 |
586 |
ビジネス用語 |
標準必須特許 |
587 |
ビジネス用語 |
ホールドアップ問題 |
588 |
ビジネス用語 |
パテントポリシー |
589 |
ビジネス用語 |
パテントプール |
590 |
ビジネス用語 |
IPRポリシー |
591 |
ビジネス用語 |
RF宣言 |
592 |
ビジネス用語 |
RAND宣言 |
593 |
ビジネス用語 |
FRAND宣言 |
594 |
ビジネス用語 |
Ex−Anteアプローチ |
595 |
外国の特許法・特許制度 |
再発行特許出願の意味 |
596 |
外国の特許法・特許制度 |
再審査とは(米国特許の) |
597 |
実体法 |
課題解決アプローチとは(米国特許出願の) |
598 |
実体法 |
課題解決アプローチのケーススタディ1(米国・肯定例) |
599 |
実体法 |
課題解決アプローチのケーススタディ2(米国・否定例) |
600 |
ビジネス用語 |
ディファクト化 |